近日，合肥产投已投企业御微半导体技术有限公司自主研发的国内首台满足90nm以上制程掩模图形缺陷检测设备Raptor-500，正式发运并交付国内领先掩模版制造厂商。该设备的成功交付，标志着御微半导体在核心检测设备领域实现关键突破，为成熟制程掩模质量控制提供极具竞争力的国产化解决方案。
掩模版，又称“光罩”或“Photomask”，是集成电路光刻工艺的“母版”，其质量直接影响晶圆良率。单个掩模图形缺陷即可导致整批晶圆报废，因此掩模版图形缺陷检测设备需实现关键缺陷100%的检出率。
“Raptor-500产品填补了相关检测设备的市场空白，可为业界提供满足成熟制程需求的掩模版图形缺陷检测解决方案。”御微Raptor产品事业部负责人介绍，该设备基于御微在高精密半导体光学设备领域的技术积淀，创新融合“高分辨率透射+反射双光路同步紫外成像技术”, “纳米级运动控制技术“及”超大规模图像计算技术 ”，可精准识别掩模版制造及光刻工艺使用周期中的图形缺陷与污染物，满足掩模厂与晶圆厂的全链条质控需求。
在新掩模版制作完成后及返修清洁环节，Raptor-500可快速筛查图形缺陷，指导客户后续修复及清洗工序，避免因漏检关键缺陷导致的下游客户晶圆报废，显著提升掩模版出货质量，降低客户生产成本。同时，在晶圆生产场景中，通过监控掩模版入厂状态及定期健康状态检测，提前预警污染及雾状缺陷（Haze）风险，助力产线光刻工艺良率，保障晶圆制造稳定性。
作为国内一家深耕掩模质量控制的高新技术企业，御微半导体持续布局“掩模全生命周期质控”全面解决方案，以满足掩模制造及晶圆生产需求，先后发布了i6R系列产品（掩模出货及光刻前后质量控制）及Halo系列产品（空白基版质量控制），已逐步成为行业相关工序的标杆装备。本次发运的Raptor-500是御微掩模质量控制的第三款核心设备，Raptor-500与i6R及Halo产品协同，提供从基版到成品的“一站式掩模零缺陷”解决方案。
合肥在线-合新闻 记者 李后祥
